디지털 덴티스트리 선도기업 (주)디오(대표 김진백, 한익재)가 미국 UCLA 대학 Takahiro Ogawa 교수와 공동연구한 ‘DIO VUV Implant’가 화제를 모으고 있다.
디오의 ‘DIO VUV Implant’는 반도체 공정에서 미량의 유기물질을 제거하는 고출력 에너지 172nm의 VUV(Vacuum UV) 광원을 사용해 임플란트 표면을 초친수성으로 개질시킨다. 360° 원통형 램프를 통해 임플란트 나사산까지 빈틈없이 VUV를 조사, 초친수성 효과를 극대화했고 글로벌 누적 판매 90만개 이상을 돌파하며 그 인기를 실감케 하고 있다.
특히, UV 광에너지 매개 활성화 연구의 권위자 UCLA 대학의 Takahiro Ogawa 교수와 디오가 공동으로 연구한 VUV 조사와 관련된 실험을 비교 분석한 논문이 주목을 받고 있다.
디오의 UV 조사기 ‘UV Activator 2’를 포함, 4종류의 UV 조사기를 이용하여 티타늄 및 치과용 재료 표면에 발생하는 유기물에 대한 UV 조사 이후의 표면개질 현상, 유기물 분해 효과, 임플란트 표면과 혈액 사이에 발생하는 역학관계를 실험으로 비교 분석하였다.
실험은 광활성화에 의해 분해되는 메틸렌 블루를 유기물 모형으로 채택해 각각 UVC, HUVC, PUV, VUV 4가지 종류로 각 60초간 UV 조사를 실시하였다. 그 결과, VUV는 메틸렌 블루 분해비율이 90% 이상, UVC는 25% 이하, HUVC와 PUV는 75% 이하의 값을 나타냈다.
실험 결과를 통해 VUV 투과율을 극대화하기 위한 특허받은 석영 앰플과 VUV 조사 시스템인 ‘DIO VUV Implant’가 유기물 제거와 함께 초친수성을 위한 표면개질이 가장 잘 이루어진다는 사실을 확인했다.
뿐만 아니라 임플란트 표면의 소수성 및 친수성이 골융합에 미치는 영향에 대한 연구 결과는 혈장이 소수성일 경우 임플란트 나사산 내부의 40~50%만 채워지는 반면, 초친수성 임플란트에서는 빈 공간 없이 모두 채워졌다. 또한 뼈를 생성하는 단백질인 피브리노겐의 밀도는 초친수성 임플란트 표면에서 소수성보다 20배가 높은 결과 값을 나타냈다.
Ogawa 교수의 논문 자료에 근거하면 초친수성 임플란트 ‘DIO VUV Implant’가 일반 임플란트에 비해 골융합 속도가 더 빠르다는 사실을 알 수 있다.
디오 임플란트 개발팀 박상오 이사는 “글로벌 시장에서 많은 사랑을 받고 있는 ‘DIO VUV Implant’가 Ogawa 교수의 논문을 통해 우수성을 다시 한번 검증하고 유저들에게 기술력에 대한 확신을 주었다”며 “앞으로 100만을 넘어 200만, 300만까지 글로벌 누적 판매 기록을 계속 달성할 수 있도록 연구 개발에 계속 몰두할 것”이라 전했다.
