[임상특강] Immediate Postextraction Implantation(Ⅲ)
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[임상특강] Immediate Postextraction Implantation(Ⅲ)
  • 권경환 교수
  • 승인 2021.11.18 09:00
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치의학임상에서 난치성 골질환 치료에 관한 최신지견 ⑱

 

3) 발치 후 즉시 임플란트 식립후 치조골의 변화에 따른 고려사항

발치 후 즉시 임플란트 식립 중 결손부위의 너비가 3mm이상일 경우에는 반드시 골이식을 시행해야하며 2mm이내의 경우 골이식을 하지 않을 때는 기존의 buccal cortex나 lingual cortex가 흡수되는 양상을 볼 수 있다. 수술 당시 임플란트 변연과 발치와 사이에 존재하던 빈 공간은 혈병으로 잘 채워지기는 하지만 이 혈병은 4주후에는 새로 형성되는 골로 대체되어 변연부 간극은 임플란트 표면과 골로써 접촉하게 된다. 초기 4주 기간 동안에 협측 및 설측 치조와벽은 심한 표면 흡수 소견을 보였고 변연부의 속상골은 흡수되었으면 얇은 협측 치조골의 높이는 심하게 감소되었다. 이러한 임상적인 결과를 바탕으로 발치 후 즉시 임플란트 식립시에는 협측골의 높이 감소를 고려하여 2-3mm정도의 여유를 가지고 깊게 식립하는 것을 고려해야 한다. 

임플란트 주변점막
모든 임플란트 부위는 점막의 상방에서 치유과정을 거치며 임플란트 지대주 부분이 12주 동안 구강내 노출되어 관찰되며 프라그 형성등이 표면에서 관찰된다. 그러나 프라그 조절 프로그램에 따라 약 3개월간 효과적으로 조절된다면 프라그 축적되거나 임플란트 주변 점막염 등의 소견은 보이지 않는다.

필자는 최근 오스템임플란트의 TS IV taper type의 임플란트를 식립하면서 highness lower abutment와 intraoral scan body를 healing abutment형태를 적용하여 임플란트 주변 점막 healing과 프라그조절을 쉽게 하는 방안과 함께 임플란트 표면의 오염을 줄이기 위해서 너비가 넓은 Highness lower abutment사용하고 있다(Figure 8-3 a). 

골결합
발치 후 즉시 임플란트 식립후 혈병 부위에는 4주 후 새로운 골이 형성되어 이들 미성숙된 골이 임플란트 거친 표면과 접촉하고 있게 되며 이러한 미성숙된 골세포가 임플란트 표면에서 콜라겐 생성과 칼슘침착으로 통한 osteon을 형성하게되는 cortex가 형성되게 되면 osseointegration이라고 명명하게 된다.

임플란트의 근처에서  새롭게 형성된 소성골의 소주형태가 층판골층과 평행으로 주행하는 섬유소로 가진 골에 의하여 강화되어 있다는 사실로 비추어 보아 콜라겐과 혈병 형성을 유도하는 이식재에 대한 필요성을 인식하게 되면서 OSSCORE collagen과 thrombonoid peptide를 연구하게 되고 최근 이에 대한 Osscore series형태의 골재생제를 개발하여 임상에 응용하고 있다(Figure 8-3 b). 협측과 설측 치조골의 지속적인 흡수가 4주와 12주사이에 계속된다는 사실이며 이러한 점진적인 흡수를 고려하여 최소한 2mm이상의 깊이로 더 깊게 식립해야 한다. 
 

협측 및 설측 치조와벽
협측 치조와벽이 설측 치조와벽보다는 1mm이상 더 흡수되는 양상을 실험과 임상에서도 관찰되고 있다. 그래서 협측을 기준으로 발치와 임플란트 식립시에는 설측보다는 협측의 깊이를 깊게 식립하는 것을 고려해야 협측 열개가 줄어들게 된다. 골이식은 협측을 기준으로 이식을 고려해야하며 최대한 잔여 골조직이 2mm이상을 유지할수 있도록 고려해서 골이식을 고려해 보아야 한다. 



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